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SHAGNHAI ZHIRUI ENVIRONMENT PROJECT co., LTD.?
電子半導體
   程簡述

        在半導體產品制造過程中,由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性,對其配套設施提出了很高的要求,尤其對作為半導體行業的超純水系統更是高之又高。半導體行業超純水制造工藝可以概述為4個部分,分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分;在有些半導體廠中, 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的,主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定。

       在液晶顯示器的生產過程中要多次涉及到清洗工藝,如所使用的玻璃基板在受入前必須清洗干凈,在濺鍍ITO導電膜之前還需要清洗干凈;除此之外,在涂敷光刻膠等之前都要對玻璃基板進行清洗,將1微米以上的顆粒以及所有的無機、有機污染物清洗干凈,保證工藝達到所需要的精度要求。

       清洗液過濾以去除清洗過程中引入的雜質,達到清洗循環利用或排放標準;玻璃基板上的污染物,主要來自制造工藝過程以及玻璃基板的搬運、包裝、運輸、儲存過程,主要的污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油和油脂等油垢、氧化硅等無機顆粒、制備加工過程的殘留物、水跡、手指印等。


  題描述
避免傳統離子再生耗費的大量酸堿,對環境更友好;
克服傳統離子設備再生周期相對較長;
超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施,利于節能減排;
節約水資源及半導體制造單位的運行成本。


電子工藝水流程圖

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